Плазменное осаждение

Сущность плазменного осаждения

Ионно-плазменное напыление

Нанесение покрытий толщины менее 10 мкм путем конденсации компонентов паровой или газовой фазы в условиях обработки частицами высоких энергий в вакууме, осаждения высокоэнергетических ионов, а также атомов и молекул с участием плазмохимических процессов или использования плазменных струй, насыщенных парами реагентов и истекающих при атмосферном давлении.

Процессы плазменного осаждения

Магнетронное осаждение Финишное плазменное упрочнение

Назначение плазменного осаждения

Изготовление деталей, технологической оснастки и инструмента, предусматривающее финишный способ модификации поверхности за счет нанесения тонкопленочных функциональных покрытий, обеспечивающих износостойкость, антифрикционность, коррозионностойкость, жаростойкость, разгаростойкость, антисхватывание, стойкость против фреттинг-коррозии и др. Основная цель применения - повышение надежности и долговечности изделий, придание декоративных свойств поверхности.

Выбор

Основывается на получении оптимальных адгезионных, физико-механических, трибологических и других функциональных характеристик покрытия при использовании конкретного материала основы, температуры процесса (интегральной температуры изделия, температуры контакта при взаимодействии фаз), длительности взаимодействия фаз (толщины покрытия) и других параметров.

Отличия плазменного осаждения